此前,中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所微納尺度瞬態(tài)成像系統(tǒng)采購(gòu)項(xiàng)目中標(biāo)結(jié)果出爐,大連創(chuàng)銳光譜儀器脫穎而出,成功中標(biāo)超千萬元的微納尺度瞬態(tài)成像系統(tǒng)。
微納尺度瞬態(tài)成像系統(tǒng)介紹:
1 綜述
1.1 用途
在實(shí)現(xiàn)掃描電子顯微鏡 (Scanning Electron Microscopy,SEM)高分辨率表面形貌(微納米尺度結(jié)構(gòu)、晶界、缺陷)成像的基礎(chǔ)上,采用陰極熒光(CL)獲得電子激發(fā)樣品的發(fā)光特性。通過CL的特征(包括光譜線形、強(qiáng)度、壽命)掌握材料的不同特征:摻雜種類/應(yīng)變/缺陷類型;摻雜種類/應(yīng)變/缺陷密度;摻雜濃度;偏振:應(yīng)變 mapping;應(yīng)變/缺陷類型等。也能分析復(fù)合結(jié)構(gòu)中異質(zhì)結(jié)構(gòu)分布、晶體/結(jié)構(gòu)缺陷:缺陷擴(kuò)展和點(diǎn)缺陷、雜質(zhì)原子摻入:類型和密度、摻雜劑摻入;類型和密度以及缺陷態(tài)、缺陷引起的應(yīng)變、晶格應(yīng)力、量子異質(zhì)結(jié)構(gòu)中的量子效應(yīng)等。基于此,SEM與CL聯(lián)用實(shí)現(xiàn)形貌-成分-發(fā)光特性的同步關(guān)聯(lián)分析,獲得在位多維信息,例如:半導(dǎo)體材料的形貌(SEM)信息的同時(shí),同位同步分析相應(yīng)結(jié)構(gòu)的發(fā)光特征(CL/TRCL),建立材料微觀結(jié)構(gòu)和微觀光學(xué)特性與介觀電學(xué)性能的關(guān)聯(lián),了解微觀信息與介觀特征,乃至宏觀器件之間的聯(lián)系。
1.2 系統(tǒng)構(gòu)成
微納尺度瞬態(tài)成像表征子系統(tǒng)以掃描電鏡為基礎(chǔ)實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)的陰極熒光探測(cè)的復(fù)合系統(tǒng),它包括:形貌分析模塊、CL/TRCL光譜模塊、超快電鏡模塊、飛秒激光器倍頻模塊、樣品臺(tái)低溫模塊等構(gòu)成。
1.3 使用環(huán)境
1.3.1 電源: 230 V (-6%/+10%) / 50 Hz (±1%)。
1.3.2 主機(jī)功耗:< 3.0 kVA。
1.3.3 運(yùn)行環(huán)境溫度: 17-23℃。
1.3.4 運(yùn)行環(huán)境:相對(duì)濕度 < 80% (無冷凝)。
2
技術(shù)要求
2.1 總體功能要求
2
設(shè)備用途:
2.1.1 等離子體,光子學(xué)超快 CL。
2.1.2 載流子動(dòng)態(tài)過程研究——PUMP-probe 實(shí)驗(yàn)(激光激發(fā),電子束探測(cè))。
總體指標(biāo):
2.1.3 顯微分辨率<1.0 nm;
2.1.4 陰極發(fā)光光譜范圍:優(yōu)于200-1000 nm;
2.1.5 光譜分辨率:優(yōu)于0.2 nm;
2.1.6 TRCL 分辨率達(dá)亞納秒級(jí)。
2.2 技術(shù)指標(biāo)要求
(一)、掃描電子顯微鏡形貌分析模塊
1 電子光學(xué)系統(tǒng)
1.1 分辨率:二次電子(SE)像
1.1.1 高真空模式:
★1.1.1.1 ≤0.9 nm @15 kV(減速模式)。
★1.1.1.2 ≤1.0 nm @1 kV(減速模式)。
1.2 放大倍率范圍:30-1,000,000 倍(根據(jù)加速電壓和工作距離的改變,放大倍數(shù)自動(dòng)校準(zhǔn))。
1.3 發(fā)射電壓:200 V-30 kV;著陸電壓:20 V-30 kV。
#1.4 電子槍:高穩(wěn)定度 Schottky 肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍,自動(dòng)烘烤、自動(dòng)啟動(dòng)。
#1.5 電子束流:1 pA-50 nA,連續(xù)可調(diào)。
1.6 束流穩(wěn)定性:每 10 小時(shí) < 0.4% 。
1.7
60°錐角物鏡,電磁透鏡、靜電透鏡,可實(shí)現(xiàn)完全無漏磁。
#1.8 自動(dòng)式物鏡光闌:物鏡光闌應(yīng)能自加熱自清潔,無需拆卸鏡筒即可更換物鏡光闌。12 孔光闌片。光闌選擇采用馬達(dá)驅(qū)動(dòng),無需人工參與。
1.9 電子槍維護(hù)可以自動(dòng)烘烤、自動(dòng)啟動(dòng)。
1.10 系統(tǒng)合軸(對(duì)中):全自動(dòng)。
1.11 具備搖擺電子束模式。用于選定區(qū)域的電子通道尋找。
#1.12 配備電子束減速模式:樣品臺(tái)偏壓范圍不小于+600V至-4000V。
1.13 復(fù)合末級(jí)透鏡:靜電、無磁場(chǎng)和浸沒式結(jié)合而成的物鏡,可切換三種不同模式,可測(cè)試磁性樣品。
2 樣品室和樣品臺(tái)
2.1 樣品室:樣品室左右內(nèi)徑≥340 mm;分析工作距離≥ 10 mm;≥12個(gè)探測(cè)器/附件接口。
#2.2 樣品臺(tái):五軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng),移動(dòng)范圍:X ≥ 110 mm;Y≥ 110 mm;Z≥60 mm;T ≥ -15°~+90°;R = 360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)。
2.3 樣品臺(tái)承重量≥ 5.0 kg;最大可觀測(cè)樣品尺寸:直徑 120 mm。
2.4 配備多功能樣品座,可同時(shí)放置≥16個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品,還能夠滿足預(yù)傾斜樣品、截面樣品、STEM樣品等樣品的檢測(cè)需求,安裝樣品不需要工具。
3 探測(cè)器(包含3個(gè)獨(dú)立探測(cè)器及2款獨(dú)立相機(jī)):
3.1 配備樣品倉(cāng)內(nèi)二次電子探測(cè)器1個(gè)。
3
★3.2 配備獨(dú)立透鏡內(nèi)低位高敏感背散射電子探測(cè)器1個(gè),提供100V以下高清背散射電子圖像。
#3.3 配備獨(dú)立的鏡筒內(nèi)中位二次電子探測(cè)器1個(gè)。
★3.3 配備樣品室IR-CCD相機(jī)。
★3.4 樣品倉(cāng)內(nèi)宏觀導(dǎo)航相機(jī)1個(gè),像素≥600萬,視野范圍≥160×105 mm;具有自動(dòng)采集圖像,數(shù)字變焦,圖像注釋和圖像保存功能。
4 真空系統(tǒng)
#4.1 完全無油真空系統(tǒng)。
4.2 渦輪分子泵≥1臺(tái)和 離子泵≥2臺(tái)。
4.3 前級(jí)機(jī)械泵為無油機(jī)械泵≥1臺(tái)。
4.4 樣品室真空度:高真空模式優(yōu)于 6.3×10-6 mbar(24 小時(shí)抽真空后)。
4.5 抽真空時(shí)間:< 3.5 分鐘。
5 超快電鏡鏡筒
★5.1 在高真空狀態(tài)電子鏡筒上端預(yù)留玻璃窗口,用于激光束激發(fā)燈絲產(chǎn)生脈沖電子。
#5.2 提供電鏡鏡筒的上端玻璃窗口專用法蘭支架,保證光學(xué)激光系統(tǒng)的穩(wěn)定搭載及安裝。
★5.3 在樣品艙室內(nèi)ETD探測(cè)器前端增配濾波系統(tǒng),減弱倉(cāng)室內(nèi)激光對(duì)于SEM信號(hào)的影
響。
6 控制和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)
#6.1 圖像存儲(chǔ)分辨率:不低于60k×60k像素(非疊加下),需提供操作界面截圖。
6.2 單視圖和四視圖圖像可切換顯示。
★6.3 一鍵實(shí)現(xiàn)光路自動(dòng)合軸、自動(dòng)消像散及自動(dòng)聚焦。
6.4 可自動(dòng)調(diào)節(jié):鏡筒合軸、圖像調(diào)整、電子槍對(duì)中、真空控制、亮度與襯度、動(dòng)態(tài)聚焦、傾斜補(bǔ)償。
6.5 具備智能掃描模式(256幀平均或積分, 線積分或平均, 隔行掃描)和DCFI (漂移補(bǔ)償幀積分)模式。
7 標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用軟件
★7.1 配置自動(dòng)圖像拍照和拼接軟件,可實(shí)現(xiàn)不小于18個(gè)區(qū)域5000張圖像的自動(dòng)拍照和圖像無縫拼接,可實(shí)時(shí)對(duì)已選定視場(chǎng)進(jìn)行回溯。
#7.2 應(yīng)具備 取消/重做 功能,可返回任意一步操作。
7.3 應(yīng)具有樣品臺(tái)圖像導(dǎo)航功能。
7.4 應(yīng)具有雙擊鼠標(biāo)移動(dòng)樣品功能。
7.5 應(yīng)具有鼠標(biāo)拖曳式放大及對(duì)中功能。
7.6 應(yīng)具備操作導(dǎo)航功能,自動(dòng)引導(dǎo)用戶完成高分辨觀察、分析等操作。
7.7 四活動(dòng)窗口顯示,可同時(shí)顯示≥4幅不同探測(cè)器圖像。
7.8
PivotBeam 選區(qū)電子通道襯度成像。
4
8 標(biāo)準(zhǔn)配件
8.1 配有空壓機(jī)和冷卻循環(huán)水系統(tǒng),分別用于閥門控制和冷卻掃描電鏡鏡筒及其它部件。
9.配備超高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡耦合系統(tǒng)
9.1 改造后可與飛秒激光器連用,實(shí)現(xiàn)超快掃描電子成像。
9.2 可與陰極熒光探測(cè)器連用。
9.3 可以實(shí)現(xiàn)空間分辨的陰極熒光壽命分布成像功能。
(二)、CL/TRCL光譜模塊
1.自由光路耦合型陰極發(fā)光光譜儀-配備于掃描電鏡
1.1 提供兩種標(biāo)準(zhǔn)模式的 CL 采集、成像。
1.2 光譜范圍為185-1050nm的雙檢測(cè)(PMT-CCD)高光譜。
1.3 收集系統(tǒng):數(shù)值孔徑>0.86。
1.4 紫外(200 nm)增強(qiáng)配置。
1.5 可調(diào)節(jié)機(jī)械裝置:調(diào)節(jié)范圍 200 nm。
1.6 XY 位置微調(diào):真空環(huán)境下微調(diào)裝置,位置可校準(zhǔn)。
1.7 光譜儀:光譜儀焦長(zhǎng)320 mm。
1.8 CCD 探測(cè)器:像元數(shù) 1024×256;尺寸 26μm×26 μm;光譜范圍 200-1100 nm;量子效率:≥60%。
1.9 PMT 探測(cè)器:?jiǎn)喂庾佑?jì)數(shù)光電倍增;渡越時(shí)間 1.2ns;光譜范圍185-860nm。
2.條紋相機(jī)模塊:
2.1 整機(jī)時(shí)間分辨率:≤20 ps。
2.2 光譜響應(yīng)波段:200-800 nm。
2.3 光陰極響應(yīng)非均勻性:<10%。
2.4 掃描非線性:≤8%。
2.5 系統(tǒng)光譜分辨率:≤0.2 nm。
2.6 掃描頻率:最高觸發(fā)頻率:≥100kHz。
2.7 光陰極有效尺寸:≥8mm×8mm。
2.8 光學(xué)狹縫長(zhǎng)度:≥18 mm。
2.9 光學(xué)狹縫寬度:0-4 mm連續(xù)可調(diào)。
2.10 光陰極材料:多堿陰極。
2.11 輸出窗材料:光纖面板,尺寸≥Φ25 mm。
2.12 掃描檔位:提供六個(gè)檔位。
2.13 最快檔固有延時(shí):< 15 ns。
2.14 像增強(qiáng)器增益:Φ25 mm,增益>10可調(diào)。
2.15 空間分辨率:≥25 lp/mm@CTF=10%。
2.16 放大倍率:1.5-1.8。
2.17 輸出圖像:分辨率2048×2048,像元尺寸6.5 μm×6.5 μm,數(shù)字讀出16 bit。
5
2.18 數(shù)據(jù)采集/分析軟件。
(三)、超快電鏡模塊
★1.智能高速光學(xué)延遲線:最快速度≥400 mm/s,最小步進(jìn)≤0.1 μm,可輸出同步觸發(fā)信號(hào),實(shí)現(xiàn)高速動(dòng)力學(xué)采集;配套延遲線光路自動(dòng)校準(zhǔn)模塊;可免去延遲線的復(fù)雜光路調(diào)節(jié),維持光路穩(wěn)定性;行程 300mm,重復(fù)精度:±0.25μm,分辨率 50nm,負(fù)載 3kg,控制方式:ETHERNET,支持高速掃描觸發(fā)。
2.檢測(cè)時(shí)間窗口:≤2 ns。
3.Probe 路-光路校準(zhǔn)模塊:探測(cè)波段:1030 nm。
4.Probe 路-電子槍激光對(duì)準(zhǔn)模塊:探測(cè)波段:257 nm。
5.壓電調(diào)節(jié)組件:
5.1 調(diào)節(jié)方式:兩支壓電螺釘對(duì)應(yīng)調(diào)節(jié)X,Y維度。
5.2 壓電螺釘使用壽命:>10億次步進(jìn)。
5.3 卡裝直徑:25.4 mm。
5.4 靈敏度:≤0.7 μrad。
5.5 調(diào)節(jié)范圍:±5°。
5.6 重量:220g(±5%)。
5.7 上電狀態(tài)下可手動(dòng)粗調(diào)。
5.8 斷電保持。
5.9 集成化軟件控制。
6. 數(shù)據(jù)采集軟件:
6.1 可實(shí)時(shí)觀測(cè)采集數(shù)據(jù)動(dòng)態(tài)變化。
6.2 等距、指數(shù)、等距+指數(shù)、多段等距和CSV自定義等多種延遲時(shí)間掃描模式,且可隨機(jī)移動(dòng)。
6.3 時(shí)間零點(diǎn)查找、并實(shí)現(xiàn)一鍵存儲(chǔ)功能。
★6.4 高速采集模式:可在≤60s(average0.1/point,100points_step)秒內(nèi),快速預(yù)覽樣品超快瞬態(tài)吸收。
7. 其他光學(xué)、光機(jī)等組件。
(四)、飛秒激光器倍頻模塊
1.激光四倍頻模塊:2 套,257 nm。分別用于激發(fā)電子束和激發(fā)樣品。
2.激光 2 倍頻模塊:515 nm,用于激發(fā)樣品。
3.激光 3 倍頻模塊:343 nm,用于激發(fā)樣品。
(五)、低溫模塊
高精度冷熱臺(tái)
1.溫度范圍: -180~400℃。
#2.溫度顯示分辨率:0.001℃。
3.溫度穩(wěn)定性:±0.1℃(>25℃), ±0.3℃(<25℃)。
4.最大加熱/制冷速度30℃/min。
6
5.控溫方式:PID控制,PID用戶可調(diào),超低電噪聲。
6.樣品區(qū)尺寸:20mm×20 mm。
7.可用于真空腔室,搭配電鏡使用,提供真空貫穿件。
#8.液氮制冷系統(tǒng):液氮泵和控制器分體式設(shè)計(jì),防止液氮泵震動(dòng)和電噪聲影響控制器精度。需提供手動(dòng)調(diào)節(jié)功率實(shí)體旋鈕,可手動(dòng)操作,也可自動(dòng)控制,液氮泵,≥10L液氮罐。
#9.溫度控制器可獨(dú)立控制,屏幕為≥7寸觸摸屏,直接面板操作。
★10.提供軟件開發(fā)包,支持第三方開發(fā)。
中標(biāo)(成交)信息
供應(yīng)商名稱:大連創(chuàng)銳光譜儀器設(shè)備有限公司
供應(yīng)商地址:遼寧省大連高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)園區(qū)匯賢園6A-1號(hào)1層
中標(biāo)(成交)金額:1019.5000000(萬元)
主要標(biāo)的信息
| 序號(hào) | 供應(yīng)商名稱 | 貨物名稱 | 貨物品牌 | 貨物型號(hào) | 貨物數(shù)量 | 貨物單價(jià)(元) |
| 1 | 大連創(chuàng)銳光譜儀器設(shè)備有限公司 | 微納尺度瞬態(tài)成像系統(tǒng) | 大連創(chuàng)銳光譜儀器設(shè)備有限公司 | CRGP-SMDJ;CRGP-TRCL;CRGP-CKDJ;CRGP-JGBP;CRGP-JGDW | 各1套 | ¥10,195,000.00 |
采購(gòu)信息
| 公告信息: | |||
| 采購(gòu)項(xiàng)目名稱 | 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所微納尺度瞬態(tài)成像系統(tǒng)采購(gòu)項(xiàng)目 | ||
| 品目 | 貨物/設(shè)備/儀器儀表/其他儀器儀表 | ||
| 采購(gòu)單位 | 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 | ||
| 行政區(qū)域 | 長(zhǎng)春市 | 公告時(shí)間 | 2025年12月12日 09:01 |
| 評(píng)審專家名單 | 王春忠、于淼、蔣子江、孫拂曉、趙超、常鈺磊、趙海峰 | ||
| 總中標(biāo)金額 | ¥1019.500000 萬元(人民幣) | ||